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      2025年試產(chǎn)2nm工藝嗎?Rapidus完成1臺V光刻機籌備了?

      來(lái)源:中國商業(yè)新聞網(wǎng)時(shí)間:2023-05-19 08:35:57

      日本Rapidus公司完成1臺EUV光刻機籌備

      原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機。

      日本當前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開(kāi)EUV光刻機,不論研發(fā)還是制造都要先買(mǎi)設備。

      Rapidus社長(cháng)小池淳義日前在采訪(fǎng)中透露,他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備,不過(guò)具體的型號及進(jìn)度沒(méi)有說(shuō)明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機,何時(shí)安裝、測試也沒(méi)公布。

      Rapidus公司成立了僅僅9個(gè)月多,不到一年時(shí)間就籌備完成EUV光刻機,進(jìn)度確實(shí)很快。

      小池淳義表示,通常大規模量產(chǎn)先進(jìn)工藝需要至少1000名工程師,但他們引入了AI和自動(dòng)化技術(shù),現在有500名工程師了,用一半的資源就能完成。

      根據該公司的計劃,他們2025年試產(chǎn)2nm工藝,2027年量產(chǎn),2030年代預計營(yíng)收將達到1萬(wàn)億日元。

      標簽: 半導體產(chǎn)業(yè) 半導體材料企業(yè)排名

      責任編輯:FD31
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